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真空等离子清洗机VP-R5对标国际一线厂家，打破国内技术空白（低温真空石英腔体等离子清洗装置），石英材质真空腔体不与等离子体产生反应，不会污染样品，两路进气通道，进气量可调，流量实时监测，数显真空检测，PLASMA等离子处理结束，自动泄压并实时观察自动泄压动态，中英文操作系统，触摸屏自动控制，功率160W，频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行30分钟，腔体温度不高于32℃，不损伤样品，适用于微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。
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