如何控制无尘洁净室的温度湿度？
湿度过高发生的问题更多，相对湿度超越55%时，冷却水管壁上会结露，假如发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。确定车间的人物流进出口位置,必须做到人物流路线合理短捷，互不交叉干扰，并与厂区总体人物流路线吻合。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将经过空气中的水分子把硅片外表粘着的灰尘化学吸附在外表耐难以铲除由于加工精度越来越精密，所以对温度波动规模的要求越来越小。例如在大规模集成电路出产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板资料的玻璃与硅片的热胀大系数的差要求越来越小。
净化工程的di一步的关键是设计，工程设计水平的好与坏将直接关系到整个工程之后的施工，还会影响净化工程今后的稳定性、可靠性、经济性。药品车间净化工程药品车间能与外界隔离，不能穿行或受其他因素干扰。净化工程的等级划分比较的严格，一般按照7个等级进行的划分，分别是1级，10级，100级，1000级，10000级，100000，1000000级，净化安全要求是根据等级来实施的，净化工程等级数越小，级别是越高的，其含尘量越少，排名是靠前的。净化工程技术的兴起不过是上个世纪的事情，但今天净化技术发挥着重要作用则是有目共睹的。随着产品向着高、1精、1尖方向发展，对净化车间的依赖度也越来越高。
直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。排风系统有一般排风系统、有机气体排风系统、酸性气体排风系统、碱性气体排风系统等，净化车间设计时，要根据实际情况选择。相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产zui佳温度范围为35—45%。现在我们国家的经济科技在发展，同时带动了社会各行各业在告诉发展中。以净化工程这个行业为例，在目前呈现一片喜人的发展态势。
