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中山五金派瑞林纳米镀膜欢迎来电「多图」水浒传主题曲
2023-12-02 11:12  浏览:23
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真空镀膜技术之物理气相沉积技术,它利用某种物理过程,实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。物理气相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。

真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有障碍。镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。

镀膜的保护作用

1、抗酸碱腐蚀,能解决受酸性或碱性物质腐蚀的问题。

2、低水、气体渗透性、具高屏障效果,能达到防潮、防水、防锈及减缓风化等作用。

在真空条件下成膜有很多优点:可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应,以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量,从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。

真空镀膜技术的应用时较早的。真空镀膜技术在电子方面开始是用来制造电阻和电容元件,之后随着半导体技术在电机学领域中的应用,又使这一技术成为晶体管制造和集成电路生产的必要工艺手段。

真空镀膜加工原理有不同可分很多种类,因为真空镀膜加工工作环境要要求高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的真空镀膜加工,影响均匀性的因素也不尽相同。

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