该曝光及显影设备包括两组边缘曝光装置，其对应于该基板的两长边设置。
该两组边缘曝光装置共用一个驱动装置，该驱动装置上分别对应于该基板的两长边各设有一组边缘曝光机和CXD影像处理器，该驱动装置驱动该两组边缘曝光装置沿相同的方向移动相同位移量。
主体曝光机，用于对基板的主体进行曝光；现有的曝光机对基板的主体部分进行曝光，但是基板的边缘，特别是基板相对的两长边(在光阻涂布的起始端与末端位置)较容易形成光阻残留，从而导致后段部件所需要用到的对位图案被遮住，造成基板报废。基板输送机构，用于输送来自该主体曝光机的基板；传送装置，用于将来自该主体曝光机的基板传送至该基板输送机构；及基板导正装置，其设置于该基板输送机构的两侧，用于导正在该基板输送机构上输送的基板，以使该基板的边缘与该边缘曝光装置对齐。
漆膜雕刻法：是手工制版法的一种，较简单。可印制一般不太精致的单S图案和文字。⑴喷制刻版漆膜纸：将描图纸用浆糊粘在平整的木版上，用排笔把橡胶水1份（体积比），q油1份调好，均匀地涂在纸面上，干后喷涂软性清漆3—5次，每次喷涂后，在烘箱中用40度~50度烘干，漆膜厚度喷至5~6毫米为宜，漆膜应光亮、均匀、无气泡、无污点。⑵雕刻图形：把漆膜纸贴在图形上，用刻刀、圆规刀、直尺按图形雕刻，轻轻地剔除漆膜。⑶转贴：雕刻图形之后，便可以往事先做好的丝网框上转贴了。怎样才干找到l理想的定位，这与规划者文化素质、艺术修养和概括判断能力有关。方法是把刻好的漆膜放在网框下面压紧，用棉花沾少许稀料在上面轻轻复擦，至漆膜与丝网粘牢为止。干燥数分钟后，把描图纸揭掉。如果纸未全掉，可用棉花沾水擦净。空白的部分用硝基漆涂一层，将丝网的网眼堵住。晾干后即可印刷。
曝光后，聚合反应还要持续一段时间，为保证工艺的稳定性，曝光后不要立即揭去聚酯膜，以使聚合反应持续进行。待显影前再揭去聚膜。4.显影曝光后的干膜有些需要放置10～15min后才能显影，这必须根据实际情况，根据干膜的要求执行。经典型logo与具有前卫、探究倾向的规划并存，规划的宽容度扩展了。利用稀碱溶液与光致抗蚀剂中未曝光部分的活性基团(羧基)反应，生成可溶性的物质溶于水，而曝光部分的干膜不发生溶解。常用1％～2％的碳酸钠水溶液作显影液，液温30～40℃，显喷淋去膜生产，但应经常检查喷嘴是否堵塞，在膜液中必须添加消泡剂。
