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如何测量真空镀膜机的厚度?
理想的膜厚是基片表面与膜表面之间的距离。在薄膜形态的三维测量中，其他二维测量相对于薄膜厚度可以说是大的。由于实际表面是不均匀、不连续的，而且膜内部可能存在气孔、杂质、晶格缺陷、表面吸附分子等，实际上很难严格定义和准确测量膜的厚度。薄膜厚度的定义取决于寻址方法和寻址目的。因此，相同的薄膜，采用不同的测量方法会得到不同的结果，即不同的厚度。
影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?
磁场不均匀的影响
由于实际的磁控溅射装置中电场和磁场不是处处均匀的，也不是处处正交的，都是空间的函数。写出的三维运动方程表达式是不可解的，至少没有初等函数的解。所以磁场的不均匀性对离子的影响，也即对成膜不均匀性的影响是难以计算的，好的方法就是配合实验具体分析。图1是用中频孪生靶柔性卷绕磁控溅射镀膜装置实验得出的靶磁场均匀性和成膜厚度均匀性的对应关系。
真空镀膜机扩散泵维修与保养
扩散泵是真空镀膜机很重要的部件，大家都知道，真空镀膜机是在真空状态下工作的，那么真空腔体要达到真空，扩散泵的。然而要保证真空镀膜机长期稳定工作，扩散泵保养和维护是的环节。
1、扩散泵工作过程中冷却水必须保证畅通，停止加热后必须保证泵工作液已完全冷却后方可关闭冷却水。
2、扩散泵停止工作时，泵内应保持真空状态，以免泵油劣化。
真空镀膜机的工作原理是怎样的？
为了实际实现状态反馈控制规律，必须采用可以直接测量的控制对象输入与输出，根据真空镀膜机建立确定状态的动态系统，称其为观测器。由输出确定控制规律本身的动态系统称为动态补偿器。
基于状态方程式进行控制系统设计的至大特点之一是在确定控制规律后，独立进行这种状态估计器的设计。
也就是说，除了控制对象的构造之外，都是利用算法计算求出来的。
这样就构成了既包含外部环境在内的控制对象，又能使闭环稳定且能跟踪目标值的系统。但是，真空镀膜机厂家的设计人员感到困难的问题是在给出具体设计指标后，究竟利用评价函数还是利用极点配置的方法问题。
为解决这个问题，通常是改变评价函数，再根据控制系统特性的变化，寻求出优评价函数，对此需要反复进行几次才行。
真空镀膜机的系统控制往往采用阶梯状或块状的线性自由系统输出来表达外干扰和目标值的形式。因此，在现代控制理论中，特别是将这种控制系统称为“伺服系统”。
这种伺服系统的设计按如下步骤进行：建立包含有干扰和目标值等控制对象的外部环境模型，对于与控制对象组合的全系统，寻求状态反馈规律。