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真空镀膜是真空应用领域的一个突破性技术，利用物理或者化学方法并吸收一系列新技术而成的工艺，目的就是为了在实际生产中为产品创造薄膜保护层。工艺主要分为真空蒸镀、磁控溅射镀膜、离子镀三种。
为什么需要进行真空镀膜呢？手机镀膜机的工艺流程，塑料薄膜的镀铝工艺一般采用直镀法，即将铝层直接镀在基材薄膜表面。这项工艺已经成为了电子元器件制造中的一项不可或缺的技术，主要是为了使产品表面具有耐磨损耐高温，耐腐蚀等优于产品本身的性能，从而提高产品的质量，延长加工产品的使用寿命，不仅如此，还可以节约能源，获得更为显著的技术经济效益。
实际应用中，我们往往会根据产品的性质来决定选用哪种真空镀膜工艺。磁控溅射镀主要用于金属产品，蒸发镀主要用于塑胶产品，光学离子镀主要用于璃玻产品。真空电镀为磁控溅射镀，以电镀不锈钢产品材质为主，可以电镀金色、玫瑰金色、黑色、枪色、蓝色等颜色，质量稳定，品质保障。后延伸到其他功能薄膜，唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等，如手表外壳镀仿金色，机械刀具镀膜，改变加工红硬性。
对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。
溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。
溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射)，晶向(外沿)生长的控制也比较一般。以pld为例，因素主要有：靶材与基片的晶格匹配程度、镀膜氛围(低压气体氛围)、基片温度、激光器功率、脉冲频率、溅射时间。晶格有序度的均匀性：这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题，具体见下。
减反射镀膜意义重大,大幅提升用户体验:现阶段几乎所有手机、平板电脑屏幕在阳光下的可视效果都非常差,主要是表面盖板玻璃(主要成分为SiO2和Al2O3)折射率较高,超过1.5,即使是好的面板反射率仍有5%。想要提高可见度,有两种方法,一是提高屏幕亮度,二是降低屏幕反射;但前者会增加耗电量,进一步缩短本已不长的智能终端待机时间。所以在改变玻璃表面采用减反射技术意义重大,可降低电子产品在室内外的反射光,减少电量消耗,大幅提升用户体验。纳米镀膜是一种汽车镀膜美容，其漆面保护效果十分明显，可以避免车漆氧化，达到漆面增亮、抗酸碱、、抗紫外线等多重功效。
派瑞林（parylene）应用范围
1、电路板2、传感器3、集成电路4、精密微型电机5、太空探索设备6、微纳米系统制造7、航空电子8、电子9、车辆内部的电子
作用：使用高纯parylene作钝化层和介质层，能提供安全、稳定的防护
Parylene是这些组装方式的防护材料。Parylene活性分子的良好穿透能力在元件内部，底部、周围形成无气隙的防护层。优良的防潮、防化学品和耐溶剂性能优良的介电绝缘性能、微米级的精密制作、极薄的膜层仍具极优的电性能、物理机械性能和防腐蚀功能。电子产品体积越来越小，越来越复杂，Parylene共形涂敷能够提供超薄无防护来保证元件的可靠性和使用寿命。对于一些较大的插件类连接器也可不做遮蔽，浸泡后可以反复对连接器插拔几次即可正常使用。
