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平面抛光机行业此刻正遭遇新一轮的洗牌，传统的平面抛光机随着厂家越来越多，技术越来越透明，所能带来的利润也逐渐微薄。在平面抛光机的镜面抛光加工工序中，可以认为工件的去除量主要是由磨削路径的长度决定的，因此直接控制工件表面的磨削路径长度能够更加准确控制工件的去除量。如何能突破瓶颈发展新的商机已是迫在眉睫。而国家扶持半导体的相关政策出来后，随着硅片生产厂商的积极响应，也给平面抛光机生产厂家带来了新的契机。
目前以平面抛光机厂家已经开始研发硅片磨抛技术，主要针对大尺寸硅片的研磨和抛光。抛光属于用微细磨粒进行的切削加工,因此抛光过程会产生微小的划痕，生成细微的切屑。但是在机会之余，我们也面临一些问题和挑战，相对国外而言，我们的技术是比较落后的，要想尽快有所成就还需要先向日本，德国等地学习，然后在此基础上进行改良和完善，以适用我们国内的生产环境。
研磨机属于典型的自动化设备，它的结构包括工件工作台进给机构、工件调整机构、研磨轮进给及压力控制机构和自动控制系统四大部分。研磨加工过程就是利用游离磨粒对零件表面进行刮削和挤压去除材料的过程，达到提高平面度和降低表面粗糙度的目的。
PLC的出现，为研磨机、抛光机的飞跃做出了很大的贡献，可以说是一个质的改变。3M公司不仅可以提供普通砂带，还可以提供更加适合拉丝的金字塔系列砂带和不织布尼龙砂带。它取代了传统的继电器，在新的发展中占了很大的比重。它为机器的自动控制，为车间、工厂的生产提高了很大的效率。在平面研磨机上也是采用的PLC程控系统，在很大程度上缩短了出产时间，提高我们的生产效率。也可以很大的节约人工。让研磨抛光变得更加便利。
西汉时期的青铜镜镜面加工技术更是负有盛名，在《淮南子》中有所描述。适用范围:适用于金、银、铜件、锌合金、铝合金、铁件、不锈钢等金属表面抛光蜡的去除。以上所有这些表面整平、抛光都是先用简单的具有一定粗糙度的工具与被整平物体互相摩擦达到整平的目的，然后用较细的砂粒或柔软具有韧性的纤维物并配以磨料摩擦进一步达到光亮（抛光）的目的。如宋代已有广泛用氧化铁作为磨料的抛光技术，这种技术要比国外早数百年。这就是早使用的表面抛光技术，也就是至今仍在使用的机械抛光技术的原形。随后，人们发现将研磨材料做成圆盘形平板或将研磨材料的粒子装在圆盘或带子上使其运转，并将被整平抛光表面放在上面可以得到不同程度的平整和光亮度，并且可以节省人力。随着机电业的发展，这种方法后发展成为现代的各种形式的机械抛光技术。
